天眼查顯示，江蘇魯汶儀器股份有限公司近日取得一項(xiàng)名為“一種等離子體密度控制系統(tǒng)及方法”的專(zhuān)利，授權(quán)公告號(hào)為CN114724914B，授權(quán)公告日為2024年11月5日，申請(qǐng)日為2021年1月4日。

本發(fā)明公開(kāi)了一種等離子體密度控制系統(tǒng)及方法，包括離子源、反應(yīng)腔室、擋片機(jī)構(gòu)和法拉第杯組；法拉第杯組設(shè)在與屏柵正對(duì)應(yīng)的反應(yīng)腔室壁面上，包括法拉第杯安裝架和至少N個(gè)法拉第杯；N個(gè)法拉第杯與屏柵上N組屏柵環(huán)狀孔的位置相對(duì)應(yīng)；擋片機(jī)構(gòu)包括驅(qū)動(dòng)裝置控制器和至少兩組擋片組件；每組擋片組件均包括若干個(gè)擋片和擋片驅(qū)動(dòng)裝置；若干個(gè)擋片均沿放電腔尾端周向均勻布設(shè)；每個(gè)擋片均能旋轉(zhuǎn)伸入放電腔內(nèi)，遮擋進(jìn)入屏柵環(huán)狀孔的等離子體；擋片組件間的擋片交替布設(shè)，擋片組件間的擋片形狀不同。本發(fā)明能對(duì)離子源引出的離子束密度進(jìn)行測(cè)量，并對(duì)等離子體密度進(jìn)行實(shí)時(shí)控制，有效解決由于工藝條件改變而導(dǎo)致的刻蝕不均勻問(wèn)題，并減小生產(chǎn)成本。