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魯汶儀器“一種晶圓外延片表面的晶格缺陷修復(fù)方法”專利公布

來源:愛集微 #魯汶儀器#
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天眼查顯示,江蘇魯汶儀器股份有限公司“一種晶圓外延片表面的晶格缺陷修復(fù)方法”專利公布,申請公布日為2024年6月28日,申請公布號為CN118263091A。

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)領(lǐng)域,具體是一種晶圓外延片表面的晶格缺陷修復(fù)方法。本發(fā)明提供了一種晶圓外延片表面的晶格缺陷修復(fù)方法。本發(fā)明提供的方法使用氧化性氣體如N2O或O2的等離子體對晶圓外延片表面進行處理,形成均勻的氧化層;使用氯基氣體如BCl3的等離子體對氧化層表面進行處理,均勻地移除氧化表層;采用氯基氣體與氟基氣體的混合氣體或氯基氣體等離子體對材料表面進行刻蝕,能夠有效地優(yōu)化晶圓外延片表層外延生長過程產(chǎn)生的晶格缺陷或氧化斑造成的刻蝕缺陷和損傷,從而得到高均勻性與一致性的晶圓外延片;相對于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明的晶圓外延片表面晶格缺陷層去除效果更優(yōu)。


責(zé)編: 趙碧瑩
來源:愛集微 #魯汶儀器#
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