天眼查顯示，江蘇魯汶儀器股份有限公司“一種離子源裝置及離子源系統(tǒng)”專利公布，申請(qǐng)公布日為2024年8月6日，申請(qǐng)公布號(hào)為CN118448236A。

本發(fā)明公開(kāi)一種離子源裝置及離子源系統(tǒng)，其中，該離子源裝置包括工作桶，所述工作桶包括環(huán)形側(cè)板和底板，所述環(huán)形側(cè)板位于所述底板的一側(cè)，所述環(huán)形側(cè)板和所述底板圍合形成放電腔室；所述環(huán)形側(cè)板的內(nèi)壁面設(shè)置有第一隔斷部，所述第一隔斷部為凹陷結(jié)構(gòu)或者凸起結(jié)構(gòu)；和/或，所述底板的內(nèi)壁面設(shè)置有第二隔斷部，所述第二隔斷部為凹陷結(jié)構(gòu)或者凸起結(jié)構(gòu)。采用上述方案，環(huán)形側(cè)板的內(nèi)壁面設(shè)置有第一隔斷部，和/或，底板的內(nèi)壁面設(shè)置有第二隔斷部，第一隔斷部、第二隔斷部均為凹陷結(jié)構(gòu)或者凸起結(jié)構(gòu)，能夠增加環(huán)形側(cè)板和/或底板內(nèi)壁面形成周向?qū)ǖ膶?dǎo)電鍍層的難度，這在一定程度上可抑制渦流的形成，以減少能量損耗，離子源裝置的工作穩(wěn)定性較高。