天眼查顯示,華海清科股份有限公司“一種拋光防護裝置、化學機械拋光系統和拋光方法”專利公布,申請公布日為2025年3月14日,申請公布號為CN119609920A。
本發(fā)明公開了一種拋光防護裝置、化學機械拋光系統和拋光方法,所述拋光防護裝置包括:環(huán)狀結構的擋圈,設置于所述拋光盤的外周側;升降組件,其固定端連接于拋光系統的基座,其移動端連接于所述擋圈,以帶動擋圈沿豎向移動;所述升降組件配置有防護套,以阻隔拋光廢液進入升降組件的內部。
天眼查顯示,華海清科股份有限公司“一種拋光防護裝置、化學機械拋光系統和拋光方法”專利公布,申請公布日為2025年3月14日,申請公布號為CN119609920A。
本發(fā)明公開了一種拋光防護裝置、化學機械拋光系統和拋光方法,所述拋光防護裝置包括:環(huán)狀結構的擋圈,設置于所述拋光盤的外周側;升降組件,其固定端連接于拋光系統的基座,其移動端連接于所述擋圈,以帶動擋圈沿豎向移動;所述升降組件配置有防護套,以阻隔拋光廢液進入升降組件的內部。
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