華海清科“一種晶圓擦洗設備、晶圓擦洗系統(tǒng)和拋光設備”專利公布

作者：愛集微 19小時前

來源：愛集微 #華海清科#

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天眼查顯示，華海清科股份有限公司“一種晶圓擦洗設備、晶圓擦洗系統(tǒng)和拋光設備”專利公布，申請公布日為2025年2月28日，申請公布號為CN119542201A。

本申請實施例提供了一種晶圓擦洗設備、晶圓擦洗系統(tǒng)和拋光設備，其中晶圓擦洗設備包括：擦洗刷和擦洗刷調(diào)控模塊；所述擦洗刷調(diào)控模塊設置在所述擦洗刷的背對晶圓的一側，并且包括朝向所述擦洗刷依次設置的伸縮模塊和磁吸模塊；所述擦洗刷包括第一轉軸和刷頭，所述第一轉軸包括朝向晶圓的第一端和背對晶圓的第二端，所述第一轉軸的第一端與刷頭連接、第二端與所述磁吸模塊磁吸連接；所述擦洗刷調(diào)控模塊配置成通過所述伸縮模塊的軸向伸縮調(diào)控所述擦洗刷與晶圓之間的擦洗壓力。本申請通過磁吸模塊和伸縮模塊的設置，實現(xiàn)了擦洗刷與擦洗刷調(diào)控模塊之間的柔性磁吸連接，并能夠在擦洗過程中保持刷頭向晶圓表面施加的壓力恒定。