天眼查顯示，上海精測(cè)半導(dǎo)體技術(shù)有限公司近日取得一項(xiàng)名為“光學(xué)特性建模方法及裝置、光學(xué)參數(shù)測(cè)量方法”的專利，授權(quán)公告號(hào)為CN114963996B，授權(quán)公告日為2025年2月14日，申請(qǐng)日為2022年4月22日。

本發(fā)明提供了一種光學(xué)特性建模方法及裝置、光學(xué)參數(shù)測(cè)量方法，所述光學(xué)特性建模方法，包括：獲取周期性介質(zhì)的特性參數(shù)，并基于所述特性參數(shù)和嚴(yán)格耦合波分析法構(gòu)建第一耦合波方程組；所述周期性介質(zhì)關(guān)于光束入射平面對(duì)稱；獲取電場(chǎng)的兩個(gè)正交分量或磁場(chǎng)的兩個(gè)正交分量的線性組合，并基于所述第一耦合波方程組和所述電場(chǎng)的兩個(gè)正交分量或所述磁場(chǎng)的兩個(gè)正交分量的線性組合構(gòu)建第二耦合波方程組；根據(jù)所述周期性介質(zhì)的對(duì)稱性簡化所述第二耦合波方程組；求解簡化后的所述第二耦合波方程組，得到理論光譜。本發(fā)明提高了光學(xué)建模的效率，以得到理論光譜。