天眼查顯示，上海精測(cè)半導(dǎo)體技術(shù)有限公司“一種薄膜參數(shù)的測(cè)量方法”專(zhuān)利公布，申請(qǐng)公布日為2024年11月29日，申請(qǐng)公布號(hào)為CN119044075A。

本發(fā)明實(shí)施例公開(kāi)一種薄膜參數(shù)的測(cè)量方法，該方法包括：構(gòu)建薄膜的模型函數(shù)并獲取薄膜的測(cè)量光譜，模型函數(shù)用于對(duì)測(cè)量光譜進(jìn)行擬合；獲取模型函數(shù)中的各個(gè)待測(cè)參數(shù)的靈敏度，并獲取靈敏度中靈敏度最小的第一待測(cè)參數(shù)和/或待測(cè)參數(shù)中靈敏度最大的第二待測(cè)參數(shù)，得到目標(biāo)待測(cè)參數(shù)；獲取目標(biāo)待測(cè)參數(shù)對(duì)應(yīng)的靈敏度修正項(xiàng)，并將模型函數(shù)中的目標(biāo)待測(cè)參數(shù)替換為靈敏度修正項(xiàng)得到第一改進(jìn)模型函數(shù)，靈敏度修正項(xiàng)是因變量為目標(biāo)待測(cè)參數(shù)的表達(dá)式；以及基于測(cè)量光譜和第一改進(jìn)模型函數(shù)，通過(guò)非線性回歸方法確定待測(cè)參數(shù)的測(cè)量值。本發(fā)明實(shí)施例基于非線性回歸方法迭代求解待測(cè)參數(shù)，能夠避免整體跳過(guò)參數(shù)最優(yōu)解，提高待測(cè)參數(shù)的測(cè)量準(zhǔn)確度。