近日，上海精測半導體第三批前道光學測量設備從新廠順利出貨，再度交付于華北大客戶，為公司成立四周年生日隆重獻禮。

本次向客戶輸出了EFILM?系列光學膜厚測量設備和EPROFILE?系列光學關鍵尺寸測量(Optical Critical Dimension, OCD)設備。其中，該光學膜厚測量設備適用于28nm FEOL和14nm BEOL節(jié)點制程，搭載多套測量系統(tǒng)，可以支持寬譜穆勒橢偏測量、高精度單波長橢偏測量，垂直反射率測量，混合測量等多種模式，可根據(jù)客戶需求進行最優(yōu)化彈性配置，適用于Gate Ox、SiON、HK/MG、SiGe、Thin ONO、ILD/IMD、SOI 等膜層結構的厚度、折射率、組分、反射率、膜應力等測量；OCD測量設備，主要應用于28nm節(jié)點及以上制程，滿足客戶二維或三維淺溝槽隔離、柵極、源漏區(qū)等結構的線寬、側壁角、高度/深度等關鍵尺寸在線量測的多方面需求，進而可為客戶創(chuàng)造更多價值。

另外，本次出機的設備均在上海精測半導體新建研發(fā)總部裝備制造基地完成總裝、調試。新裝備制造基地坐擁約4000平方米無塵車間，未來將具備150+的整機裝調機臺位，目前已規(guī)劃五條柔性集成裝配、軟硬件調試生產線和一條光學分系統(tǒng)離線柔性測調流水線。

受上半年疫情影響，上海精測半導體同絕大部分企業(yè)一樣，歷經近3個月的封控與隔離，部分業(yè)務不可避免地被延期。但疫情防控期間，上海精測半導體在嚴格執(zhí)行防控各項要求的同時，秉承“居家辦公不脫崗，工作任務云執(zhí)行”的宗旨，確保我司各環(huán)節(jié)的運營仍在有序推進。自6月復工復產以來，公司生產中心裝配團隊開足馬力、24小時不停歇，在全過程嚴格苛刻管控質量的前提下，竭力追趕進度，力爭最大限度降低客戶損失。同時，亦已合理規(guī)劃內部各環(huán)節(jié)的協(xié)同合作，并詳盡策劃了后續(xù)設備出機的預案。

上海精測半導體將繼續(xù)秉持以專業(yè)技術為核心，以優(yōu)質服務為特色，按高規(guī)格、高標準將每一臺設備安全、可靠地輸送到客戶手里。