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積塔半導(dǎo)體“應(yīng)用于濕刻清洗機臺的溫度控制系統(tǒng)及方法”專利公布

來源:愛集微 #積塔半導(dǎo)體# #積塔半導(dǎo)#
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天眼查顯示,上海積塔半導(dǎo)體有限公司“應(yīng)用于濕刻清洗機臺的溫度控制系統(tǒng)及方法”專利公布,申請公布日為2024年9月6日,申請公布號為CN118605646A。

本申請?zhí)峁┍旧暾埳婕耙环N應(yīng)用于濕刻清洗機臺的溫度控制系統(tǒng)及方法。濕刻清洗機臺包括若干個功能槽,溫度控制系統(tǒng)包括:與各功能槽分別熱交換連接的電控溫裝置和化學(xué)反應(yīng)控溫裝置,以及與電控溫裝置和化學(xué)反應(yīng)控溫裝置連接的控制裝置;其中,電控溫裝置用于:進行電能和熱能之間的轉(zhuǎn)換;化學(xué)反應(yīng)控溫裝置用于:進行化學(xué)能和熱能之間的轉(zhuǎn)換;控制裝置用于:確定各功能槽的工藝溫度;根據(jù)所述工藝溫度,將各功能槽劃分為多個溫度控制組;對每個溫度控制組設(shè)置溫度控制菜單;根據(jù)溫度控制菜單,分別控制電控溫裝置及化學(xué)反應(yīng)控溫裝置對溫度控制組中的各功能槽進行聯(lián)合控溫。所述溫度控制系統(tǒng)可以避免功能槽出現(xiàn)溫度的大范圍異常波動。

責(zé)編: 趙碧瑩
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THE END

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