日本三井化學(xué)日前宣布，即將開始量產(chǎn)用于最尖端光刻機(jī)的光掩模防護(hù)膜新品，以應(yīng)對(duì)尖端半導(dǎo)體需求的增長(zhǎng)。三井化學(xué)計(jì)劃在山口縣巖國(guó)大竹工廠內(nèi)設(shè)置生產(chǎn)線，生產(chǎn)該公司“Pellicle”系列最新一代產(chǎn)品，可支持ASML下一代EUV光刻機(jī)。

據(jù)了解，光掩模防塵薄膜（pellicle）用于保護(hù)光掩模的清潔，需要高透光率以及長(zhǎng)壽命。三井化學(xué)2023年與比利時(shí)微電子研究中心（imec）合作，將共同推進(jìn)EUV碳納米管光掩模薄膜（pellicle）技術(shù)商業(yè)化。

該產(chǎn)品預(yù)計(jì)年生產(chǎn)能力為5000張，生產(chǎn)線預(yù)計(jì)于2025年12月完工，但三井化學(xué)未透露投資金額。

采用碳納米管（CNT）材料制造的薄膜，與以往產(chǎn)品相比，提高了強(qiáng)度和光的透射率，具有極高的EUV透光率（≥94%）。此外，碳納米管顆粒還能夠承受超過1kW的EUV功率，從而滿足未來新一代光刻機(jī)的需求。

據(jù)了解，三井化學(xué)于1984年推出Pellicle光掩模防護(hù)膜，全球份額居首；在2022年從競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手旭化成取得相關(guān)業(yè)務(wù)后，三井化學(xué)幾乎壟斷了這類尖端產(chǎn)品市場(chǎng)。

（校對(duì)/孫樂）