大日本印刷（DNP）近日宣布，計(jì)劃為日本半導(dǎo)體公司Rapidus研發(fā)并量產(chǎn)用于2nm制程芯片的最尖端光掩模產(chǎn)品，預(yù)計(jì)2027年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。此外，日本凸版（Toppan）公司也將開發(fā)最尖端的光掩模。

日本Rapidus正努力實(shí)現(xiàn)在日本生產(chǎn)2nm制程半導(dǎo)體的目標(biāo)，這也是日本新能源和產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合開發(fā)機(jī)構(gòu)（NEDO）委托的“后5G信息通信系統(tǒng)平臺(tái)強(qiáng)化研究開發(fā)業(yè)務(wù)”的一環(huán)。

DNP計(jì)劃在2024年內(nèi)，在日本國內(nèi)工廠引進(jìn)2臺(tái)在光掩模上繪制細(xì)微電路圖形的專用設(shè)備，計(jì)劃首先投入總額500億日元資金（約合23.8億元人民幣）。該公司計(jì)劃于2027年，在光掩模的主要生產(chǎn)廠上福岡工廠開始量產(chǎn)面向2nm半導(dǎo)體的光掩模產(chǎn)品。

（校對(duì)/孫樂）