天眼查平臺顯示，上海傳芯半導(dǎo)體有限公司兩項(xiàng)掩?；逯苽浞椒òl(fā)明專利日前公布，申請公布日均為2023-09-15。
“襯底的拋光裝置、方法以及光掩?；娴闹圃旆椒ā睂＠@示，本發(fā)明提供了一種襯底的拋光裝置、方法以及光掩模基版的制造方法，所述襯底的拋光裝置包括：離子發(fā)生器，用于向襯底表面發(fā)射等離子體或離子束；至少一個線圈，設(shè)置于所述襯底的外圍，所述線圈用于產(chǎn)生平行于所述襯底表面的磁場，以使得所述等離子體或所述離子束在所述磁場的作用下向平行于所述襯底的方向發(fā)生偏轉(zhuǎn)。本發(fā)明的技術(shù)方案使得在拋光過程中避免損傷襯底表面，從而使得明顯提高襯底表面的平整度，改善襯底表面的粗糙度。
“掩模版的制備方法、干法刻蝕設(shè)備”專利摘要顯示，本發(fā)明提供了一種掩模版的制備方法、干法刻蝕設(shè)備。在掩模版的制備方法中，具體可利用干法刻蝕工藝刻蝕光刻膠層，并在刻蝕的過程中實(shí)時監(jiān)測位于光刻膠層下方的金屬層內(nèi)的電流，從而可以在金屬層的電流出現(xiàn)突變時及時提示刻蝕終點(diǎn)，更靈敏的監(jiān)測刻蝕終點(diǎn)，提高刻蝕精度，改善金屬層受到刻蝕損傷的問題。
根據(jù)公開信息，傳芯公司于2020年7月1日在中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)臨港新片區(qū)注冊成立，是一家致力于半導(dǎo)體級空白掩模版(即掩?；?的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)的綜合型公司，通過引進(jìn)國內(nèi)外專業(yè)技術(shù)及高端人才，匯聚多方資源組建專業(yè)團(tuán)隊(duì)，實(shí)現(xiàn)集成電路產(chǎn)業(yè)鏈中關(guān)鍵原材料和零配件的國產(chǎn)化，填補(bǔ)國內(nèi)半導(dǎo)體級空白掩模版領(lǐng)域的空白。
