美國又故伎重施了。

據(jù)報道，美國正在推動荷蘭禁止ASML向中國大陸出售稍舊的深紫外線（DUV）光刻機，以進(jìn)一步遏制中國半導(dǎo)體的崛起。此外，據(jù)傳美國官員還試圖向日本施加壓力，要求在ArFi光刻機領(lǐng)域占有少量市場的日本Nikon等停止向中國大陸供貨。

而最新的消息好似再次“加碼”，荷蘭外交大臣證實，荷蘭和美國正在磋商禁止ASML向中國大陸出口芯片制造技術(shù)。

從特朗普政府開始，光刻機禁運相關(guān)的新聞就屢上頭條，好像時不時就會祭出相似的戲碼。之前最先進(jìn)的EUV光刻機禁運就基本讓大陸代工業(yè)無法染指7nm以下制程，如今更變本加厲，又再次將“黑手”伸向了DUV。

愛集微此前分析過DUV的重要性和禁運的影響，盡管看上去山雨欲來，但考量多重因素本文仍將就可行性進(jìn)行解讀。

波及太廣難成行

DUV的重要性毋庸置疑，DUV光刻機涵蓋的工藝范圍非常廣泛，上至7nm下到180nm芯片制造，這一范圍覆蓋超過80%的芯片生產(chǎn)，并且光刻機是芯片制造的核心工藝設(shè)備，接近流程的30%。

DUV光刻機分三大類，主要是KrF、ArF和ArF-i（Immersion）三個大類。其中ARFi被稱為浸潤型光刻機，等效光波波長為134納米，ArF和KrF的波長分別是193納米和248納米。而波長越短意味著可以支持更高的制造工藝，因而ARFi型是最高端的DUV光刻機。

半導(dǎo)體行業(yè)人士陳啟認(rèn)為，假如全部DUV被“斷供”，那基本是一網(wǎng)打盡，幾乎等于大陸所有的8英寸+12英寸擴產(chǎn)計劃將全部泡湯。

正如以賽亞調(diào)研(Isaiah Research)所言，基本上ASML、尼康、佳能等三家設(shè)備商壟斷了大部分DUV設(shè)備的市場，假使美國要求禁售設(shè)備予中國大陸，本土亦尚未有技術(shù)完備且足夠的設(shè)備產(chǎn)能供應(yīng)，中國大陸晶圓代工廠如中芯國際、華虹半導(dǎo)體的成熟制程擴產(chǎn)將大有難度。

但從基本盤來解讀，這一可能性亦值得商榷。

從ASML營收的立場來看，短期內(nèi)禁售DUV給中國大陸的可能不大，畢竟ASML在大陸地區(qū)銷售主力機型就是DUV，除非有相對應(yīng)的彌補措施。

以賽亞調(diào)研分析原因時提到，一則ASML上個月才在中國大陸有大舉的招聘舉動。二則ASML財報顯示， ASML2021年營收中中國大陸占比約15%左右，達(dá)到27.4億歐元（約185億元人民幣），中國大陸已超越美國成為ASML的第三大市場。2022年一季度，ASML向中國大陸出貨了23臺光刻設(shè)備，中國大陸對ASML的營收貢獻(xiàn)達(dá)至少30%，主要來自于華虹等大陸晶圓代工廠對DUV設(shè)備的需求，ASML同時也宣布DUV設(shè)備產(chǎn)能預(yù)計在2025年上調(diào)到600臺。

就算由此產(chǎn)生的虧空可以通過其他途徑找補回來，但局面或依然要仔細(xì)掂量。

“假使美國要求ASML、尼康、佳能等三家設(shè)備商禁售DUV設(shè)備至大陸，DUV設(shè)備的產(chǎn)能亦可通過中國臺灣、韓國、美國等代工廠補上，但中國大陸各家晶圓代工廠在成熟制程的擴產(chǎn)計劃是最積極，內(nèi)需市場也是最有潛力的，因此對于三家設(shè)備商的營收還是會有一定影響的?！?/strong>以賽亞調(diào)研分析說。

而且，禁售DUV也將連帶著影響美國設(shè)備企業(yè)和供應(yīng)商企業(yè)的利益。

“如DUV被禁，且不說ASML、尼康等公司承受著有形無形的損失，那基本也等同于大陸晶圓擴產(chǎn)難以為繼。想想看，如果DUV買不到，那購買其他的刻蝕、薄膜沉積等設(shè)備有何意義？這也意味著其它的設(shè)備訂單將泡湯，畢竟擴充產(chǎn)能需要的是完整一條線的設(shè)備，缺一不可。這種情況下占據(jù)半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)大頭的美國應(yīng)材、泛林等會坐視不理嗎？美國設(shè)備公司自身在華業(yè)務(wù)也會受到很大影響必定持反對意見?！?/strong>陳啟一針見血道。

更進(jìn)一步來說，如果DUV光刻機買不到，大陸晶圓廠可能就只能擴一些低端制程，比如早期6/8英寸的i線光刻機，那所需的其他設(shè)備可能也不需要向應(yīng)材等廠商下訂單“贊助”了，因應(yīng)材、泛林等公司早就停止了相關(guān)設(shè)備生產(chǎn)。

而且此舉也會讓中國大陸半導(dǎo)體業(yè)者謹(jǐn)慎考慮擴產(chǎn)，進(jìn)而也會影響到美國其他半導(dǎo)體設(shè)備廠商，這應(yīng)不是ASML、應(yīng)材等設(shè)備業(yè)巨頭所愿看到的“負(fù)面效應(yīng)”。

對于這一事件的另一主角日本來說，“如果美國也要求日本設(shè)備廠商同步跟進(jìn)，那相當(dāng)于是徹底掀桌子，尼康、東京電子、日高科、日立國際電氣、DNS、荏原、東京精密、愛發(fā)科等日企在華業(yè)務(wù)量也不少，會這么輕言放手嗎？” 陳啟道出了實情。

荷蘭態(tài)度成關(guān)鍵

美國將DUV光刻機再次作為科技博弈的“武器”，原因無他。

經(jīng)過數(shù)年的沉浮之后，全球光刻機廠商只有三家荷蘭阿斯麥(ASML)、日本尼康和佳能傲視群雄，而高端的EUV光刻機唯有ASML一家獨大。

但因光刻機作為“集大成者”，需要眾多高精尖的零部件，包括光源、物鏡、光束矯正器、掩膜版等。而ASML光刻機中含有美國技術(shù)的重要零部件供應(yīng)，憑借瓦森納協(xié)定以及層出不窮的美國打壓中國高科技崛起祭出的新規(guī)，有可能以此為“憑據(jù)”要求ASML對中國大陸斷供DUV。

“但也不是沒有其他辦法，如ASML的DUV光源供應(yīng)商有兩家，一家是美國Cymer的，另外一家是日本的小松，如果美國以此來說事，那ASML可以采購日本的光源來規(guī)避。” 陳啟建議說。

更進(jìn)一步來說，這一“建議”僅僅是美國議員的相關(guān)提案，但總統(tǒng)不簽字或者是國會過不了那基本只能是無限期“擱置”了，從芯片法案的“難產(chǎn)”就可知，從提案到落地甚至不了了之的事已屢見不鮮。

要指出的是，荷蘭政府尚未同意對ASML向中國芯片制造商出口的任何額外限制，這可能會損害荷蘭與中國的貿(mào)易關(guān)系。今年6月，荷蘭首相呂特曾表示他反對重新考慮與中國的貿(mào)易關(guān)系，呼吁歐盟發(fā)展自身對華政策。中國是荷蘭第三大貿(mào)易伙伴，僅次于德國與比利時。

ASML CEO Peter Wennink在今年早些時候也曾表示，不希望禁止向中國大陸客戶銷售DUV光刻機，因為這已經(jīng)是一項成熟的技術(shù)。

而對于近日荷美兩國的磋商，ASML 發(fā)言人也表示：“討論并不新鮮，公司尚未做出任何決定，不希望對傳言進(jìn)行猜測或發(fā)表評論?！?nbsp;

不論這事有多不“靠譜”，但美國不按常理出牌也不是一回兩回了。需要指出的是，為遏制日本光刻機發(fā)展美國扶持ASML崛起，經(jīng)過數(shù)年的資本騰挪，如今ASML表面上是一家荷蘭公司，但其最大的股東是美國資本國際集團，第二大股東則是美國貝萊德集團，可以說ASML已然是一家美國公司了。

業(yè)界知名專家分析說，在迫于壓力之下，有可能會出現(xiàn)至暗時刻，而芯片制造生產(chǎn)線少一臺DUV也會影響產(chǎn)能，國內(nèi)半導(dǎo)體業(yè)仍要有底線思維。

光刻設(shè)備當(dāng)自強

可以說，光刻機的斷供是我國半導(dǎo)體業(yè)不能承受之“重”。

以賽亞調(diào)研指出，中國大陸半導(dǎo)體最大的發(fā)展瓶頸之一即是光刻設(shè)備，自美國要求ASML禁售EUV設(shè)備后，中國大陸晶圓廠在先進(jìn)制程的發(fā)展即倍受阻撓。假使美國進(jìn)一步要求禁售DUV設(shè)備，則對大陸代工廠未來成熟制程的擴產(chǎn)產(chǎn)生一定程度的影響，汽車電子、物聯(lián)網(wǎng)等技術(shù)的發(fā)展亦會隨著產(chǎn)能而受限。

目前來看，盡管遭受終端市場需求低迷、砍單和去庫存等疊加的不利影響，但國內(nèi)代工廠的擴建潮仍如火如荼。

據(jù)集微咨詢（JW Insights）統(tǒng)計，中國大陸共有23座12英寸晶圓廠正在投入生產(chǎn)，總計月產(chǎn)能約為104.2萬片，與總規(guī)劃月產(chǎn)能156.5萬片相比，這些晶圓廠的產(chǎn)能裝載率僅達(dá)到66.58%，仍有較大擴產(chǎn)空間，而未來五年將會建25座12英寸晶圓廠。

而為了促進(jìn)芯片的有序良性發(fā)展，消息人士表示，針對火熱的芯片投資熱潮，在政策層面出臺過不少指導(dǎo)意見，從目前業(yè)內(nèi)反饋來看55nm以下工藝較容易拿到“路條”，對于公開市場再融資活動也較支持。

上述人士指出，因55nm下制程用量較大，且有一定的技術(shù)難度，符合“卡脖子”特性，符合戰(zhàn)略方向，因此12英寸55nm以下新建線較易獲批，但不符合上述要求的新建產(chǎn)線則很難獲批，甚至對于公開市場融資態(tài)度都是比較偏緊的。

因而，這對于著力國產(chǎn)替代的國內(nèi)設(shè)備業(yè)來說，要在55nm以上制程“頂上”，一時還難以“勝任”。

在美國遏制中國高科技產(chǎn)業(yè)已成為“既定國策”之際，并從 “一刀切”的封鎖方式，到“小院高墻”的精準(zhǔn)打擊模式，我國在光刻機領(lǐng)域的“短板”顯然亟待改觀。

業(yè)界知名專家對此提及，DUV斷供肯定是殺手锏，如果部分實現(xiàn)影響都非同小可，目前國內(nèi)的光刻機實力還較弱，即便28nm宣稱成功，也不見得能立即在生產(chǎn)線上使用，畢竟光刻機出現(xiàn)問題對于流片影響巨大，客戶一般不會輕易換上國產(chǎn)設(shè)備，還需要多年磨合。

“因而光刻機是命脈，一定要加速進(jìn)行攻關(guān)，而且國產(chǎn)化要做到更極致，否則就免不了被動?！?/strong>專家建議道。

以賽亞調(diào)研也認(rèn)為，在美國逐步將半導(dǎo)體技術(shù)作為政治工具的做法下，中國要加速國產(chǎn)設(shè)備的技術(shù)發(fā)展，扶植國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備公司，盡量達(dá)到去美化的結(jié)果以避免政治干預(yù)本土半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，但去美化的目標(biāo)并非一蹴而就，需要大量的時間與資本投入。

除在核心領(lǐng)域攻堅和破局之外，為深遠(yuǎn)計，陳啟最后建議，雖然美國利用科技優(yōu)勢搞“脅迫”，但我國自主研發(fā)確保核心科技掌握在手中只是第一步，更重要的是如何讓中國的技術(shù)、中國的標(biāo)準(zhǔn)融入全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈，形成你中有我、我中有你的局面，這樣才不懼“威脅”。（校對/艾檬）