韓國極紫外線（EUV）半導(dǎo)體設(shè)備專業(yè)公司ESOL日前成功獲得740億韓元的B輪投資。這是韓國今年上半年第二大規(guī)模投資，僅次于人工智能（AI）平臺公司W(wǎng)rtn Technologies獲得的830億韓元。在投資持續(xù)低迷且資金高度集中于AI領(lǐng)域的背景下，這一成就尤為顯著。

半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)將此次投資視為不僅僅是資金籌集。這被視為韓國半導(dǎo)體行業(yè)核心工藝EUV領(lǐng)域基于技術(shù)內(nèi)部化的后續(xù)產(chǎn)品商業(yè)化正全面展開的信號。一些分析師預(yù)測，最早今年就可能出現(xiàn)有意義的成果。

EUV光刻工藝是半導(dǎo)體微型化的主要推動力，在全球半導(dǎo)體設(shè)備生態(tài)系統(tǒng)中擁有最高的進入壁壘。荷蘭公司主導(dǎo)了在晶圓上繪制電路的EUV光刻機。日本Lasertec壟斷了掩模缺陷檢測設(shè)備，而德國蔡司壟斷了投影光學(xué)系統(tǒng)和其他光學(xué)系統(tǒng)，形成了強大的生態(tài)系統(tǒng)。

各種缺陷檢測設(shè)備對于EUV光刻機生產(chǎn)先進晶圓至關(guān)重要。這是穩(wěn)定供應(yīng)EUV掩模的先決條件。ESOL商業(yè)化的掩模檢測設(shè)備SREM在掩模生產(chǎn)過程中發(fā)生的缺陷上扮演最終判斷的角色。在EUV光刻機在晶圓上繪制電路后，需要EUV圖案掩模檢測器來檢查完成的掩模上是否存在圖案缺陷。Lasertec的掩模檢測器檢測潛在問題。然后，蔡司的掩模檢測設(shè)備被部署來徹底檢查缺陷，就像在顯微鏡下提供精確診斷一樣。最終，多個檢測設(shè)備在EUV光刻工藝中發(fā)揮互補作用，確保高質(zhì)量、無缺陷的掩模。

韓國ESOL通過挑戰(zhàn)蔡司曾經(jīng)壟斷的領(lǐng)域，強調(diào)本地化和供應(yīng)鏈多元化，正迅速滲透市場。當(dāng)比SREM具有更高生產(chǎn)力的后續(xù)產(chǎn)品FREM商業(yè)化后，預(yù)計將帶來生產(chǎn)力和性能的革命性進步，可能吸引韓國國內(nèi)代工廠和各種全球客戶的響應(yīng)。

據(jù)悉，ESOL將把這筆資金投入擴建位于京畿道東灘的半導(dǎo)體生產(chǎn)工廠，并內(nèi)部研發(fā)光學(xué)系統(tǒng)組件。目標是通過不僅組裝鏡面光學(xué)等核心組件，還自行生產(chǎn)它們來內(nèi)部化供應(yīng)鏈。作為全球第四家擁有自己的EUV光源和內(nèi)部化組件能力的公司，這增強了其作為韓國代表性EUV公司的潛力。創(chuàng)業(yè)團隊由來自ASML、KLA（科磊）和浦項工科大學(xué)的半導(dǎo)體設(shè)備人才組成，由被視為韓國頂級光刻專家、在三星電子半導(dǎo)體研究中心工作超過20年的CEO Kim Byeong-guk和EUV技術(shù)專家CTO Lee Dong-geun領(lǐng)導(dǎo)，這在韓國是罕見的專業(yè)人才集合。

根據(jù)全球市場研究公司Market Research Insights的數(shù)據(jù)，全球掩模檢測系統(tǒng)市場規(guī)模預(yù)計將從2024年的12億美元增長到2033年的25億美元，復(fù)合年均增長率（CAGR）估計為9.2%。業(yè)界也期待ESOL在EUV設(shè)備領(lǐng)域成為一種平臺型企業(yè)的潛力。ESOL另一主打產(chǎn)品是薄膜透射率檢測設(shè)備，考慮到材料制造商Fine Semitech Corp是其母公司，在協(xié)同效應(yīng)和可擴展性方面被認為具有優(yōu)勢。（校對/趙月）