近日，中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”）宣布其Primo Menova?12寸金屬刻蝕設(shè)備全球首臺機順利付運國內(nèi)一家重要集成電路研發(fā)設(shè)計及制造服務(wù)商。

據(jù)悉，中微公司的12英寸ICP單腔刻蝕設(shè)備 Primo Menova?專注于金屬刻蝕，尤其擅長于金屬Al線、Al塊的刻蝕，可廣泛應(yīng)用于功率半導(dǎo)體、存儲器件和先進邏輯芯片的制造，是晶圓廠金屬化工藝主要設(shè)備之一。Primo Menova?基于中微量產(chǎn)的ICP刻蝕產(chǎn)品Primo Nanova?研發(fā)制造，秉承了優(yōu)異的刻蝕均一性控制，可達到高速率、高選擇比及低底層介質(zhì)損傷等刻蝕性能。Primo Menova?搭配高效率腔體清潔工藝，可減少腔室污染，延長腔體持續(xù)運行時間。Primo Menova?系統(tǒng)還集成了配備高溫水蒸氣的除膠腔室（strip chamber），高效去除金屬刻蝕后晶圓表面殘留光刻膠及副產(chǎn)物。Primo Menova?和除膠腔體可根據(jù)客戶工藝需求靈活搭配，最大程度滿足客戶高生產(chǎn)效率的要求，確保機臺在高負荷生產(chǎn)中的穩(wěn)定性與良率。

截至2024年年底，中微公司累計已有超過6000臺等離子體刻蝕和化學(xué)薄膜設(shè)備的反應(yīng)臺，在國內(nèi)外137條生產(chǎn)線實現(xiàn)量產(chǎn)和大規(guī)模重復(fù)性銷售。（校對/李梅）