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六方科技合成的Ta2C單晶驗(yàn)證具有超導(dǎo)電性

來源:六方科技 #六方科技# #半導(dǎo)體#
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科學(xué)發(fā)現(xiàn)往往充滿了偶然性,六方科技做的是碳化硅/碳化鉭涂層產(chǎn)品,卻偶然合成了Ta2C單晶,首次明確了它的超導(dǎo)電性,正所謂無心插柳柳成蔭。

TaC涂層使用溫度超過2000攝氏度,被用于第三代半導(dǎo)體SiC長晶及外延的零部件。有趣的是,TaC同時(shí)也是一種超導(dǎo)體,超導(dǎo)轉(zhuǎn)變溫度10.3K[1]。金屬鉭(Ta)還有另一種碳化物,Ta2C,關(guān)于它的超導(dǎo)性質(zhì)卻長期存在爭議。Hardy等人早在1954年就報(bào)道了Ta2C超導(dǎo)轉(zhuǎn)變溫度為3.26K[2]。然而,Giorgi等人卻在9年后的研究中發(fā)現(xiàn),Ta2C在溫度低于1.98K之下仍然沒有發(fā)現(xiàn)超導(dǎo)跡象[3]。因此,Ta2C是否超導(dǎo)是一個(gè)懸而未決的科學(xué)問題,問題的難點(diǎn)在于研究者長期以來都無法合成高質(zhì)量Ta2C單晶。

圖1:(a)有限滲碳機(jī)理示意圖。(b)鉭箔碳化和超400微米和1200微米的TaC涂層件。

六方科技長期從事的是碳化硅,碳化鉭涂層產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn)。盡管公司的主業(yè)是生產(chǎn)制造,但是工程師們對材料相關(guān)的基礎(chǔ)科學(xué)問題保持著強(qiáng)烈的探索欲望。盡管常用的TaC涂層是通過CVD沉積獲得的,公司也同時(shí)研究Ta金屬的碳化獲得TaC涂層的方法(圖1)。在滲碳實(shí)驗(yàn)當(dāng)中,工程師偶然發(fā)現(xiàn)除了生成TaC涂層,這一方法也能獲得Ta2C的成分。研究發(fā)現(xiàn)鉭的滲碳是一個(gè)復(fù)雜的固態(tài)反應(yīng)過程,包含碳梯度擴(kuò)散與相變:在富碳環(huán)境中,鉭表面直接接觸碳源形成TaC相,次表層區(qū)域則通過梯度碳擴(kuò)散生成Ta2C相。當(dāng)鉭基體尺寸過小或保溫時(shí)間過長時(shí),往往會(huì)導(dǎo)致鉭完全轉(zhuǎn)化為TaC相,如圖1 (a) 所示。

圖2. (a) Ta2C晶體結(jié)構(gòu)示意圖。(b)鉭棒碳化后的產(chǎn)物的示意圖。(c) 對應(yīng)(b)圖中黑色虛線框區(qū)域的SEM圖像,可見圓柱狀Ta2C外圍包裹著多晶層。(d) Ta2C單晶的XRD θ-2θ 掃描圖譜。插圖為毫米坐標(biāo)紙上Ta2C單晶的實(shí)物照片。(e) Ta2C 單晶的解理面的低能電子衍射(LEED)圖像。

在合適的碳化速率和鉭件尺寸下,該團(tuán)隊(duì)最終在6mm直徑的鉭棒內(nèi)部得到約為3mm直徑的大尺寸、高質(zhì)量Ta2C單晶,相應(yīng)晶體表征如圖2所示。有了高質(zhì)量Ta2C單晶,關(guān)于Ta2C是否超導(dǎo)的科學(xué)問題迎刃而解,我們的研究表明:Ta2C是一種Ⅱ型超導(dǎo)體,其臨界溫度為4.1K,上臨界場0.153T,下臨界場21.8 Oe。經(jīng)過退磁因子修正后,超導(dǎo)體積分?jǐn)?shù)估算超過65%,表明樣品具有體超導(dǎo)性(圖3)。

圖3.(a-b)輸運(yùn)數(shù)據(jù)。(c-d)磁測量數(shù)據(jù)。

圖4.(a-b)分別為Ta2C的不考慮和考慮SOC時(shí)的計(jì)算能帶。(c-d)僅含體態(tài)、同時(shí)包含體態(tài)與表面態(tài)的表面態(tài)色散譜。

TaC具有立方相結(jié)構(gòu),很難獲得平整的解理面,導(dǎo)致TaC電子結(jié)構(gòu)的直接測量長期以來沒有研究報(bào)道。與TaC不同,Ta2C具有層狀結(jié)構(gòu),容易解理,使得實(shí)驗(yàn)測量其電子結(jié)構(gòu)成為可能。通過和甬江實(shí)驗(yàn)室及浙江工業(yè)大學(xué)合作,我們發(fā)現(xiàn),Ta2C能帶結(jié)構(gòu)具有不平庸的拓?fù)湫再|(zhì)(Topologically Nontrivial)。如圖4(a-d)所示,在不考慮SOC時(shí),有三條能帶穿過費(fèi)米能級,相互交叉或接觸。當(dāng)考慮SOC后,沿Γ-A方向的簡并能帶(紅色箭頭標(biāo)記)和LH上的交叉點(diǎn)(紅色圓圈標(biāo)記)發(fā)生劈裂,能帶相互分離,產(chǎn)生顯著的帶隙。帶隙的Z2拓?fù)渲笖?shù)為(1:000),表明Ta2C具有強(qiáng)拓?fù)涮匦浴sw邊對應(yīng)關(guān)系表明,非平庸的拓?fù)鋷犊梢援a(chǎn)生魯棒的表面態(tài)。Ta2C的表面色散譜如圖4(c-d)所示,帶隙中存在多個(gè)非平庸表面態(tài)(如綠色箭頭所示)。

超導(dǎo)性和非平庸拓?fù)涞墓泊媸沟脤訝頣a2C成為探索拓?fù)涑瑢?dǎo)性和馬約拉納束縛態(tài)的潛在候選材料。上述研究成果以”Ta2C: A possible candidate of topological superconductor”發(fā)表在SCI期刊《Journal of Alloys and Compounds》(JCR一區(qū)、中科院二區(qū),影響因子5.8)。

責(zé)編: 愛集微
來源:六方科技 #六方科技# #半導(dǎo)體#
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