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北方華創(chuàng)“半導(dǎo)體設(shè)備的工藝腔室”專利公布

來源:愛集微 #北方華創(chuàng)#
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天眼查顯示,北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司“半導(dǎo)體設(shè)備的工藝腔室”專利公布,申請公布日為2025年2月14日,申請公布號為CN118422139A。

本申請?zhí)峁┮环N半導(dǎo)體設(shè)備的工藝腔室,包括工藝腔體、基座、防護(hù)內(nèi)襯以及接地裝置;基座可升降地設(shè)置于工藝腔體內(nèi),用于支撐晶片,防護(hù)內(nèi)襯圍繞工藝腔體的內(nèi)側(cè)壁設(shè)置,用于保護(hù)工藝腔體的內(nèi)側(cè)壁,接地裝置包括第一連接件、第二連接件和連接彈簧,第一連接件與基座相連,第二連接件通過連接彈簧與第一連接件相連,第二連接件能夠與防護(hù)內(nèi)襯貼合,以電連接基座和防護(hù)內(nèi)襯。第一連接件與基座電連接,在基座上升至加工位時,連接彈簧支撐第二連接件與防護(hù)內(nèi)襯貼合,從而實現(xiàn)基座與防護(hù)內(nèi)襯的電連接,使二者處于相同電位,避免了二者之間發(fā)生電弧打火。連接彈簧能夠經(jīng)過多次伸縮不會發(fā)生損壞,延長接地裝置的使用壽命。

責(zé)編: 趙碧瑩
來源:愛集微 #北方華創(chuàng)#
THE END

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