天眼查顯示，上海微電子裝備(集團)股份有限公司近日取得一項名為“垂向測量裝置、垂向測量方法及光刻機”的專利，授權公告號為CN117192917B，授權公告日為2024年12月31日，申請日為2023年09月25日。

本發(fā)明提供了一種垂向測量裝置、垂向測量方法及光刻機，垂向測量裝置包括：照明模塊、投影光路模塊和探測光路模塊，所述照明模塊用于提供光束，所述投影光路模塊包括掃描反射單元；其中，所述照明模塊發(fā)出的光束經(jīng)所述掃描反射單元反射后照射至待測表面，經(jīng)過所述待測表面反射后被所述探測光路模塊接收，所述探測光路模塊計算獲得所述掃描反射單元角度偏差引起的垂向測量誤差和所述待測表面的絕對測量高度。本發(fā)明可以計算掃描反射單元角度偏差引起的垂向高度測量誤差以及待測表面的絕對測量高度，實現(xiàn)了掃描反射單元角度的監(jiān)控及測量精度的提升。