集微網(wǎng)消息，上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司于11月28日公開了其最新的光刻機相關(guān)專利。據(jù)天眼查顯示，上海微電子公開的專利名為“投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)及光刻機”,申請公布號CN117130226A。

該專利摘要顯示，本發(fā)明提供了一種投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)及光刻機，所述投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)沿其光軸方向從物面到像面依次包括：第一透鏡組、第二透鏡組、光闌、第三透鏡組與第四透鏡組。其中，所述第三透鏡組與所述第二透鏡組關(guān)于所述光闌對稱，所述第四透鏡組與所述第一透鏡組關(guān)于所述光闌對稱，所述投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)是對稱結(jié)構(gòu)，且所述投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)中所有的透鏡組均具有正光焦度，以此可以在提高成像質(zhì)量的基礎(chǔ)上，增大曝光系統(tǒng)的視場尺寸，提升產(chǎn)率。

上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司成立于2002年3月，法定代表人為干頻，經(jīng)營范圍含半導(dǎo)體裝備等的開發(fā)、設(shè)計、制造、銷售及技術(shù)服務(wù)等，由上海電氣控股集團(tuán)有限公司（42.3%）、上?？萍紕?chuàng)業(yè)投資有限公司（14.21%）等共同持股。

（校對/張杰）