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日本Rapidus接收首臺EUV光刻機 計劃2027年量產(chǎn)2nm芯片

來源:愛集微 #Rapidus# #EUV# #2nm#
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Rapidus已開始在其位于北海道北部城市千歲的在建芯片制造設(shè)施中安裝極紫外(EUV)設(shè)備,這使其成為首家接收EUV光刻設(shè)備的日本半導體公司。

“我們將從北海道和日本向全世界提供尖端半導體,”Rapidus CEO小池淳義于新千歲機場舉行的儀式上表示。

由荷蘭供應(yīng)商ASML制造的首批EUV光刻系統(tǒng)部件于上周六抵達機場,預(yù)計該系統(tǒng)在工廠的安裝將在本月底完成。

由于系統(tǒng)體積巨大,安裝將分四個階段進行。一個完整的設(shè)備重達71噸,大約與鯨魚相當,高度為3.4米。

EUV設(shè)備結(jié)合了特殊光源、鏡頭和其他技術(shù),以形成超精細的電路圖案。系統(tǒng)的龐大體積使其不易受到振動和其他干擾的影響。

ASML是全球唯一的EUV系統(tǒng)供應(yīng)商。每個系統(tǒng)的成本約為1.8億美元或更高。只有少數(shù)芯片制造商采用了它們,包括臺積電、三星電子和英特爾。去年全球僅交付了42套系統(tǒng)。

Rapidus正與IBM合作,計劃在2025年春季開發(fā)使用尖端2nm工藝的原型芯片,并計劃在2027年大規(guī)模生產(chǎn)這些芯片。臺積電計劃在2025年大規(guī)模生產(chǎn)2nm芯片。

日本半導體產(chǎn)業(yè)在1980年代曾占據(jù)全球市場份額的50%以上。但到了2000年代,日本退出了生產(chǎn)越來越小的邏輯芯片的競爭。

目前沒有日本芯片制造商能夠生產(chǎn)比40納米更先進的芯片。(校對/李梅)

責編: 李梅
來源:愛集微 #Rapidus# #EUV# #2nm#
THE END

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張杰

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