天眼查顯示，新美光（蘇州）半導(dǎo)體科技有限公司“鍍膜裝置及鍍膜調(diào)整方法”專利公布，申請公布日為2024年10月29日，申請公布號為CN118854228A。

本申請實(shí)施例涉及一種鍍膜裝置及鍍膜調(diào)整方法。其中，鍍膜裝置包括：殼體設(shè)有出氣口，且殼體內(nèi)部形成有反應(yīng)腔室，出氣口連通反應(yīng)腔室；蒸發(fā)臺用于對膜料進(jìn)行加熱并使其蒸發(fā)，膜料蒸發(fā)后形成氣態(tài)膜料；安裝組件用于安裝襯底，氣態(tài)膜料形成氣流場并附著于襯底表面形成薄膜；格柵組件包括多條格柵與多個(gè)驅(qū)動(dòng)件，格柵在驅(qū)動(dòng)件的作用下調(diào)整張合狀態(tài)；驅(qū)動(dòng)件在控制器的控制作用下驅(qū)動(dòng)格柵調(diào)整張合狀態(tài)，以調(diào)整氣流場分布，進(jìn)而調(diào)整襯底表面形成的薄膜的均勻性。本申請實(shí)施例提供的鍍膜裝置能夠調(diào)整襯底表面形成的薄膜的均勻性，進(jìn)而提高襯底表面沉積均勻性。