一、【研究背景】
光電探測器 (PD) 是生物醫(yī)學傳感、現(xiàn)代成像、空間通信和環(huán)境監(jiān)測等不同學科中不可或缺的組件,是一種擅長捕獲精確波長譜內(nèi)的光信號并將其即時轉(zhuǎn)換為電脈沖的設(shè)備。目前,商業(yè)光電探測器主要以傳統(tǒng)元素半導(dǎo)體(如 Si 和 Ge)以及化合物半導(dǎo)體(如 GaAs 和 CdS)為主。然而,商業(yè)光電探測器的設(shè)備探測能力和速度,加上其高昂的成本和嚴格的制造先決條件,凸顯了探索和開發(fā)替代品的緊迫性。
金屬鹵化物鈣鈦礦半導(dǎo)體已成為這一探索中一個有前途的競爭者。它們獨特的特性融合在一起,包括可調(diào)帶隙、卓越的光吸收能力、卓越的載流子遷移率和低成本的制造工藝,使它們成為一種誘人的選擇,近年來引起了廣泛的興趣和研究努力。對高質(zhì)量感光材料的追求是實現(xiàn)先進光電探測器器件的基石,金屬鹵化物鈣鈦礦正迅速成為該領(lǐng)域的領(lǐng)跑者。值得注意的是,以CsPbX 3 (X = Cl、Br、I)族為代表的全無機鉛基鹵化物鈣鈦礦,不僅繼承了其鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的優(yōu)異光學屬性,而且還表現(xiàn)出卓越的環(huán)境穩(wěn)定性。這些屬性使它們成為廣泛光電探測器應(yīng)用中極具競爭力的候選者,預(yù)示著這些鈣鈦礦材料的光明前景。
目前,大多數(shù)鈣鈦礦光電探測器都是使用旋涂技術(shù)以及復(fù)雜的前體和添加劑溶液制造的。然而,這個過程本質(zhì)上對實驗的細微差別很敏感,這對實現(xiàn)可重復(fù)和受控的設(shè)備性能提出了挑戰(zhàn)。
二、【研究進展】
多層旋涂工藝因其固有的不可控性而受限,在此背景下,脈沖激光沉積(PLD)作為一種無需額外氣體或溶劑的替代方案,展現(xiàn)出了巨大的潛力。通過PLD沉積的薄膜能夠精確復(fù)制目標材料的化學成分,確保了化學純度的高度一致,并顯著提升了薄膜厚度與均勻性的控制精度。
作者巧妙地利用PLD技術(shù)在SrTiO3襯底上成功生長了CsPbX3薄膜,相較于多晶薄膜而言,這一成果彰顯了PLD在制備高晶體質(zhì)量和卓越相穩(wěn)定性的外延鈣鈦礦薄膜方面的強大能力。尤為值得一提的是,基于PLD生長的CsPbBr3外延薄膜所構(gòu)建的MSM型光電探測器,其性能卓越,不僅擁有超低暗電流,還實現(xiàn)了探測率的新紀錄,這進一步凸顯了PLD在推動鈣鈦礦光電探測器技術(shù)發(fā)展中的巨大潛力。
此外,鈣鈦礦材料憑借其與傳統(tǒng)硅半導(dǎo)體無縫集成的獨特優(yōu)勢,結(jié)合成熟的加工技術(shù),為創(chuàng)建高性能異質(zhì)結(jié)構(gòu)光電探測器開辟了新的途徑。這種創(chuàng)新方法不僅大幅降低了加工成本,簡化了設(shè)備制造流程,還充分利用了兩種材料的互補特性,從而顯著提升了設(shè)備性能,并可能解鎖更多前所未有的功能。
因此,探索PLD作為生長高質(zhì)量CsPbBr3鈣鈦礦薄膜以及與硅構(gòu)建異質(zhì)結(jié)構(gòu)光電探測器的替代方法,具有極高的價值。這一方法有望克服以往技術(shù)中的諸多限制。在本文中,作者通過PLD技術(shù)在p-Si襯底上成功外延生長了高質(zhì)量的CsPbBr3鈣鈦礦薄膜,并展示了具有顯著增強綠光響應(yīng)的p-Si
-CsPbBr3異質(zhì)結(jié)構(gòu)光電探測器,為光電探測技術(shù)的發(fā)展注入了新的活力。
三、【圖文簡介】
圖 1 CsPbBr3薄膜在Si(100)襯底上的表征
圖 2 CsPbBr3薄膜表面的AFM圖像
圖 3 器件性能
圖 4 光電探測器的光響應(yīng)特性及性能評估
圖 5 p-Si-CsPbBr3異質(zhì)結(jié)構(gòu)光電探測器的能帶結(jié)構(gòu)與工作原理
圖 6 Si/CsPbBr3異質(zhì)結(jié)能帶結(jié)構(gòu)與p-Si/CsPbBr3光電探測器性能模擬
四、【閱讀啟發(fā)】
了解了脈沖激光沉積(PLD)技術(shù)原理及方法,明白了Si-PVK疊層探測器能帶原理。
文獻鏈接: https://doi.org/10.1063/5.0234708