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芯德半導(dǎo)體“一種應(yīng)用于晶圓清洗的過濾裝置”專利獲授權(quán)

來源:愛集微 #芯德半導(dǎo)體#
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天眼查顯示,江蘇芯德半導(dǎo)體科技股份有限公司近日取得一項(xiàng)名為“一種應(yīng)用于晶圓清洗的過濾裝置”的專利,授權(quán)公告號為CN221333104U,授權(quán)公告日為2024年7月16日,申請日為2023年10月26日。 


本實(shí)用新型提供了一種應(yīng)用于晶圓清洗的過濾裝置,包括自上而下依次設(shè)置的進(jìn)液管、上固定部、濾芯、下固定部和出液管,所述進(jìn)液管連通上固定部,所述濾芯設(shè)于上固定部和下固定部之間,所述出液管連通下固定部。還包括夾持部和靜置平臺,所述夾持部連接于上固定部下方,所述夾持部實(shí)現(xiàn)對濾芯的夾持和釋放,所述靜置平臺設(shè)有排液管或者連通出液管,所述濾芯被釋放后置于靜置平臺,濾芯上殘留的藥液通過排液管或者出液管排出。本實(shí)用新型解決現(xiàn)有技術(shù)中晶圓清洗回收液過濾芯更換所造成的藥液溢出問題,避免了因更換濾芯造成人體化學(xué)藥劑接觸,加大了工作人員作業(yè)的安全性,也節(jié)省了更換濾芯的時間。

責(zé)編: 趙碧瑩
來源:愛集微 #芯德半導(dǎo)體#
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