4月11日上午，南智先進光電集成技術研究院（簡稱“南智光電”）鈮酸鋰光子芯片產線啟動儀式在新區(qū)舉行。

南京江北新區(qū)消息顯示，本次啟用的產線，具備了光刻、刻蝕、鍍膜、研拋、濕法等系列核心技術工藝。這意味著國內薄膜鈮酸鋰光子芯片產業(yè)化取得重要進展。產線配備3.5億元規(guī)模設備、5000平方米超凈間，覆蓋了整個產業(yè)鏈的核心工藝，月產能一千片晶圓。

據(jù)悉，作為光電產業(yè)老前輩，祝世寧院士一直帶領團隊勇闖“無人區(qū)”，聚焦光電產業(yè)里的冷門賽道鈮酸鋰材料領域，堅持實現(xiàn)更多原創(chuàng)突破。2018年，在南京大學和南京江北新區(qū)支持下，祝世寧團隊在新區(qū)產業(yè)技術研創(chuàng)園落地南智光電，并負責建設運營光電公共技術平臺，瞄準下一代光電芯片技術在基礎材料、器件工藝等方面的需求，開展研發(fā)工作。

未來，以鈮酸鋰光子芯片產線為基礎，南智光電將能夠面向國內外光電企業(yè)提供芯片研發(fā)及流片支持。（校對/韓秀榮）