12月11日至12日，上海集成電路2024年度產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇暨第三十屆中國集成電路設(shè)計業(yè)展覽會"（簡稱ICCAD）在上海世博展覽館盛大開啟。作為國內(nèi)集成電路設(shè)計業(yè)的頂級盛會，本屆大會以“智慧上海，芯動世界”為主題，吸引了眾多國內(nèi)外頭部EDA企業(yè)參會。

東方晶源受邀參展并于12月12日EDA與IC設(shè)計服務(wù)（二）專題論壇中由HPO產(chǎn)品總監(jiān)鄢昌蓮發(fā)表了《AI輔助連接芯片設(shè)計與制造》的主題演講，展示了旗下計算光刻平臺PanGen? V5.0版本最新內(nèi)容及基于此平臺開發(fā)的D2C（Design To Contour）快速光刻反饋引擎的技術(shù)演進成果，受到行業(yè)高度關(guān)注，也為整個行業(yè)的發(fā)展提供了新的方向和啟示。

隨著集成電路制程節(jié)點的演進，工藝復(fù)雜度增加，良率管理難度進一步加大，成為行業(yè)發(fā)展的難點和技術(shù)瓶頸。東方晶源自創(chuàng)立至今始終專注集成電路領(lǐng)域綜合良率管理，并通過持續(xù)創(chuàng)新助力半導(dǎo)體企業(yè)穩(wěn)步提升產(chǎn)品良率及市場競爭力。這其中，計算光刻相關(guān)軟件不僅是保證硅片最終圖像不失真的必需軟件，同時也是決定產(chǎn)品良率的最重要環(huán)節(jié)。歷經(jīng)10年的開發(fā)與迭代，東方晶源充分發(fā)揮自身在計算光刻軟件OPC和電子束量測檢測機臺領(lǐng)域的兼?zhèn)鋬?yōu)勢，目前旗下PanGen?平臺已形成豐富的產(chǎn)品矩陣，包括精確的制程仿真、DRC、SBAR、OPC、LRC、DPT、SMO、DMC，具備完整的計算光刻相關(guān)工具鏈條。

演講中鄢總監(jiān)表示：“東方晶源一直致力于推動行業(yè)的技術(shù)進步和創(chuàng)新，以切實解決客戶在芯片制造過程中的良率問題。今年以來，PanGen ILT?再度革新，新產(chǎn)品PanGen DMC?上線并完成驗證，其內(nèi)嵌的D2C快速光刻反饋引擎作為現(xiàn)有DRC工具的有力補充，幫助客戶于DRC檢查之外更全面的發(fā)現(xiàn)版圖在工藝可制造性方面的風(fēng)險，從而加速迭代、降低時間成本，使新的芯片產(chǎn)品在流片過程中能更快拉升良率，更早推向市場。近期，針對國內(nèi)前沿客戶的需求，東方晶源還推出了PanGen? V5.0版本，提供了曲線目標(biāo)版圖掩膜優(yōu)化等新功能，積極踐行HPO（Holistic Process Optimization）良率最大化技術(shù)路線和產(chǎn)品設(shè)計理念的同時，持續(xù)為客戶和行業(yè)創(chuàng)造價值！”

結(jié)合此次演講的分享內(nèi)容，東方晶源展臺內(nèi)對支持HPO解決方案的諸多技術(shù)成果以及點工具還進行了更為詳細的工藝展示和性能優(yōu)化介紹。EDA方面，除了計算光刻平臺PanGen?，嚴(yán)格光刻仿真軟件PanGen Sim?、良率管理軟件YiledBook等同樣受到了與會者的廣泛關(guān)注。與此同時，公司在電子束檢測量測領(lǐng)域的三款拳頭產(chǎn)品：電子束缺陷檢測設(shè)備EBI、關(guān)鍵尺寸量測設(shè)備CD-SEM以及電子束缺陷復(fù)檢設(shè)備DR-SEM也吸引了眾多參觀者，他們在現(xiàn)場與技術(shù)專家進行了深入的交流和探討。

此次ICCAD2024的成功舉辦，不但進一步鞏固了其在集成電路設(shè)計業(yè)界的權(quán)威地位和影響力，也為東方晶源提供了一個展示自身技術(shù)實力的舞臺。未來，隨著技術(shù)的日新月異與產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展，東方晶源將繼續(xù)尋求與業(yè)界伙伴的深化合作，致力為中國集成電路的持續(xù)繁榮與創(chuàng)新發(fā)展貢獻更多力量。