9月12日，財政部、稅務(wù)總局、國家發(fā)展改革委、工業(yè)和信息化部四部門印發(fā)《關(guān)于提高集成電路和工業(yè)母機企業(yè)研發(fā)費用加計扣除比例的公告》。
公告指出，集成電路企業(yè)和工業(yè)母機企業(yè)開展研發(fā)活動中實際發(fā)生的研發(fā)費用，未形成無形資產(chǎn)計入當期損益的，在按規(guī)定據(jù)實扣除的基礎(chǔ)上，在2023年1月1日至2027年12月31日期間，再按照實際發(fā)生額的120%在稅前扣除；形成無形資產(chǎn)的，在上述期間按照無形資產(chǎn)成本的220%在稅前攤銷。
據(jù)悉，公告中集成電路企業(yè)是指國家鼓勵的集成電路生產(chǎn)、設(shè)計、裝備、材料、封裝、測試企業(yè)。具體按以下條件確定：
（一）國家鼓勵的集成電路生產(chǎn)企業(yè)是指符合《財政部 稅務(wù)總局 發(fā)展改革委 工業(yè)和信息化部關(guān)于促進集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展企業(yè)所得稅政策的公告》（財政部 稅務(wù)總局 發(fā)展改革委 工業(yè)和信息化部公告2020年第45號）第一條規(guī)定的生產(chǎn)企業(yè)或項目歸屬企業(yè)，企業(yè)清單由國家發(fā)展改革委、工業(yè)和信息化部會同財政部、稅務(wù)總局等部門制定。
（二）國家鼓勵的集成電路設(shè)計企業(yè)是指符合《財政部 稅務(wù)總局 發(fā)展改革委 工業(yè)和信息化部關(guān)于促進集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展企業(yè)所得稅政策的公告》（財政部 稅務(wù)總局 發(fā)展改革委 工業(yè)和信息化部公告2020年第45號）第四條規(guī)定的重點集成電路設(shè)計企業(yè)，企業(yè)清單由國家發(fā)展改革委、工業(yè)和信息化部會同財政部、稅務(wù)總局等部門制定。
（三）國家鼓勵的集成電路裝備、材料、封裝、測試企業(yè)是指符合《中華人民共和國工業(yè)和信息化部 國家發(fā)展改革委 財政部 國家稅務(wù)總局公告（2021年第9號）》規(guī)定條件的企業(yè)。
此外，工業(yè)母機企業(yè)是指生產(chǎn)銷售符合本公告附件《先進工業(yè)母機產(chǎn)品基本標準》產(chǎn)品的企業(yè)。
以下為《先進工業(yè)母機產(chǎn)品基本標準》：
一、金屬切削機床
定位精度≤10微米/米，并安裝數(shù)控系統(tǒng)。
二、鑄造裝備
1.真空熔鑄裝備：坩堝容量≥50千克。
2.感應(yīng)熔煉電爐：熔化量≥10噸。
3.粘土砂造型線：靜壓造型生產(chǎn)線造型效率≥100型/小時,砂箱尺寸1200毫米×1000毫米及以上；垂直造型線造型效率≥400型/小時。
4.大型自硬砂成套設(shè)備：處理能力≥60噸/小時的連續(xù)式混砂機，60噸級及以上振實臺、起模機。
5.高壓壓鑄機：合模力≥6000噸。
6.擠壓鑄造成套設(shè)備：鎖模力≥1000噸。
7.氣力輸送鑄造廢砂再生設(shè)備：處理能力30噸/小時以上，舊砂回用率水玻璃砂90%以上、樹脂砂94%以上。
三、鍛壓裝備
1.數(shù)控液壓機：公稱壓力≥1000噸。
2.數(shù)控多連桿機械壓力機：公稱壓力≥1000噸，沖壓生產(chǎn)線≥2000噸（總噸位）。
3.冷鍛機械壓力機：公稱壓力≥630噸。
4.熱模鍛壓力機：公稱壓力≥2000噸。
5.熱等靜壓裝備：有效熱區(qū)直徑≥1000毫米。
四、焊接裝備
1.數(shù)字化弧焊裝備：數(shù)控系統(tǒng)跟蹤補償精度0.1毫米—0.5毫米、焊接工藝參數(shù)波動小于2%—5%。
2.激光、電子束等高能束焊接裝備：機電協(xié)同控制精度1%、跟蹤補償精度0.1毫米—0.5毫米、焊接工藝參數(shù)波動小于2%。
3.慣性、攪拌摩擦焊及電阻焊裝備：機電協(xié)同控制精度1%、響應(yīng)速度5毫秒—10毫秒；數(shù)控系統(tǒng)跟蹤補償精度0.05毫米—0.1毫米。
五、熱表處理裝備
1.真空熱處理裝備：裝爐量≥1噸。
2.控制氣氛熱處理裝備：裝爐量≥1噸。
3.絕緣柵雙極型晶體管電源感應(yīng)熱處理裝備。
4.連續(xù)熱處理生產(chǎn)線：生產(chǎn)能力≥1噸/小時。
5.自動電鍍設(shè)備：行車上自帶獨立控制箱和主可編程邏輯控制器網(wǎng)絡(luò)通信，具備四軸運動能力。
6.低壓等離子噴涂設(shè)備：真空室尺寸≥Ф2000毫米×3000毫米,噴槍使用功率≥80千瓦。
7.溶液等離子噴涂設(shè)備：噴槍使用功率≥100千瓦,漿料輸送率≥0.5升/分。
8.真空鍍膜裝備：膜層不均勻性≤±10%，故障診斷節(jié)點數(shù)≥1000。
六、數(shù)控裝置
具備三軸及以上聯(lián)動控制功能。
七、滾動功能部件（絲杠/導(dǎo)軌）
P3精度以上。
八、電主軸
動態(tài)回轉(zhuǎn)精度≤10微米。
九、數(shù)控轉(zhuǎn)臺
定位精度≤15″。
十、位置反饋元件（光柵尺/編碼器）
直線準確度≤±3微米；旋轉(zhuǎn)準確度≤±2.5″。
十一、擺角頭
定位精度≤15″。
十二、動力刀架刀庫
分度精度≤±6″，換刀時間（T-T）≤2.5秒。
十三、真空系統(tǒng)
1.鍍膜機：整機漏率達到1.0×10-8帕斯卡·升/秒量級，工作真空度保持時間≥6個月。
2.工業(yè)爐：漏率達到1.0×10-7帕斯卡·升/秒量級，工作真空度保持時間≥6個月。（校對/趙碧瑩）
