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碳化硅外延片全球首個(gè)SEMI國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布,瀚天天成主導(dǎo)

來(lái)源:愛(ài)集微 #SiC# #標(biāo)準(zhǔn)# #瀚天天成#
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近日,國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SEMI)正式發(fā)布了碳化硅半導(dǎo)體外延晶片全球首個(gè)SEMI國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)——《4H-SiC同質(zhì)外延片標(biāo)準(zhǔn)》(Specification for 4H-SiC Homoepitaxial Wafer)。此標(biāo)準(zhǔn)由瀚天天成電子科技(廈門(mén))股份有限公司主導(dǎo)編寫(xiě),中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所、株洲中車時(shí)代電氣股份有限公司、Wolfspeed等十二家單位參與編寫(xiě),歷時(shí)近三年時(shí)間。

據(jù)悉,《4H-SiC同質(zhì)外延片標(biāo)準(zhǔn)》這一國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)布實(shí)施,將在規(guī)范國(guó)際碳化硅半導(dǎo)體外延行業(yè)有序發(fā)展,降低國(guó)際貿(mào)易協(xié)作成本,加速新技術(shù)在全球的推廣等方面具有深遠(yuǎn)的意義。(校對(duì)/趙碧瑩)

責(zé)編: 趙碧瑩
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THE END

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