通過(guò)將光的頻率信息加以應(yīng)用，人類創(chuàng)造了光譜分析技術(shù)。由于光譜分析具有精度高、測(cè)量范圍大、速度快和樣品用量少等優(yōu)點(diǎn)，已經(jīng)廣泛應(yīng)用于科研和生產(chǎn)檢測(cè)領(lǐng)域。尤其隨著微納制造的飛速發(fā)展，光譜分析技術(shù)不斷深入各類生產(chǎn)制造與量檢測(cè)環(huán)節(jié)，已成為支撐集成電路和光電子芯片產(chǎn)業(yè)制造工藝的關(guān)鍵技術(shù)之一。

這個(gè)角逐激烈的賽道上，誕生于高校實(shí)驗(yàn)室的國(guó)內(nèi)企業(yè)復(fù)享光學(xué)正異軍突起，憑借在深度光譜技術(shù)領(lǐng)域的積累，為等離子體刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)、缺陷檢測(cè)、光學(xué)量測(cè)等環(huán)節(jié)帶來(lái)了高效的解決方案。去年，集微網(wǎng)曾在2021年IC World展會(huì)上對(duì)復(fù)享光學(xué)進(jìn)行過(guò)一次詳細(xì)的專訪，而今年再次相逢在展會(huì)上，這個(gè)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新者又會(huì)給我們帶來(lái)什么驚喜呢？集微網(wǎng)記者采訪到了復(fù)享光學(xué)首席發(fā)展官章煒毅，圍繞復(fù)享光學(xué)的本次參展、在半導(dǎo)體領(lǐng)域的定位及發(fā)展、以及未來(lái)的戰(zhàn)略規(guī)劃等焦點(diǎn)話題，進(jìn)行了專訪解答。

2022 IC World復(fù)享光學(xué)展臺(tái)

兩大重磅方案來(lái)襲

“我們今年主推的產(chǎn)品是ZURO系列光譜儀”，章煒毅告訴集微網(wǎng)，這是專為刻蝕應(yīng)用場(chǎng)景所研發(fā)的光譜儀，關(guān)鍵性能指標(biāo)已經(jīng)達(dá)到了國(guó)際大廠旗艦級(jí)產(chǎn)品的水平。

刻蝕是半導(dǎo)體晶圓制造中的三大關(guān)鍵步驟之一，其先進(jìn)程度決定著晶圓廠生產(chǎn)高級(jí)制程產(chǎn)品的能力和芯片的最終性能?？涛g工藝中需要實(shí)時(shí)監(jiān)控晶圓上鍍膜的厚度、均勻性，還要確定刻蝕的終點(diǎn)，這些都可以通過(guò)光譜儀來(lái)實(shí)現(xiàn)。

復(fù)享光學(xué)推出的ZURO系列光譜儀匹配了半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，滿足針對(duì)金屬刻蝕、單多晶硅刻蝕、化合物刻蝕及高速清洗等多個(gè)應(yīng)用場(chǎng)景需求，具有信號(hào)精準(zhǔn)、性能長(zhǎng)期穩(wěn)定、Fab生產(chǎn)環(huán)境適應(yīng)等特點(diǎn)。

除具備高靈敏、高信噪比等優(yōu)勢(shì)外，ZURO系列的單幀采集最大動(dòng)態(tài)范圍可突破40000:1，優(yōu)于同類國(guó)外產(chǎn)品，能夠有效提取深孔和多晶硅刻蝕過(guò)程中的弱信號(hào)。章煒毅指出這個(gè)特性非常重要，如果產(chǎn)品性能不夠優(yōu)秀，是絕不可能捕捉到這種微弱的信號(hào)。

此外，復(fù)享光學(xué)為ZURO系列光譜儀配備了專門的軟件——ideaEPD。該軟件是一款由復(fù)享光學(xué)深入客戶應(yīng)用開發(fā)的Fab工藝專用軟件，支持自定義終點(diǎn)算法、工藝終點(diǎn)分析、高速采樣監(jiān)控、刻蝕深度監(jiān)控等功能，能實(shí)現(xiàn)多達(dá)10臺(tái)腔體的同時(shí)監(jiān)控。

復(fù)享光學(xué)攜ZURO光譜儀亮相2022 IC World

“ZURO系列目前有兩個(gè)型號(hào)，高端的性能可對(duì)標(biāo)國(guó)際大廠旗艦產(chǎn)品，另一款配置較低，但可以滿足現(xiàn)在通用的刻蝕場(chǎng)景?！闭聼樢惚硎荆浜蟟deaEPD軟件，ZURO系列實(shí)現(xiàn)了覆蓋面最廣的產(chǎn)品陣列，這在國(guó)內(nèi)也尚屬首次。

“為了能讓ZURO系列具有優(yōu)異的表現(xiàn)，復(fù)享光學(xué)在開發(fā)過(guò)程中與客戶不斷進(jìn)行性能的打磨，對(duì)關(guān)鍵參數(shù)反復(fù)進(jìn)行硬件調(diào)校，使其能滿足6、8、12英寸制程刻蝕工藝的不同要求?！?strong>章煒毅表示，復(fù)享光學(xué)已完成ZURO系列產(chǎn)品的國(guó)產(chǎn)驗(yàn)證與量產(chǎn)準(zhǔn)備，能為客戶進(jìn)行差異化的定制開發(fā)，解決頭部客戶的關(guān)鍵光學(xué)零部件供應(yīng)安全問題。

除了推出針對(duì)核心工藝的解決方案，復(fù)享光學(xué)還帶來(lái)了針對(duì)光子芯片、AR/VR等領(lǐng)域的光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)AR-Meta。

AR-Meta是復(fù)享光學(xué)面向超構(gòu)透鏡檢測(cè)的旗艦產(chǎn)品。超構(gòu)透鏡是隨著微納制程工藝的進(jìn)步和超構(gòu)表面的研究發(fā)展而誕生的一種新型透鏡，突破了原有材料的物理極限。它由微米或納米結(jié)構(gòu)單元有效排列組成，具有平面化、小型化、集成化等優(yōu)勢(shì)，被視為下一代光學(xué)模組的核心元件。

2019年，復(fù)享光學(xué)從超構(gòu)透鏡的設(shè)計(jì)原理出發(fā)，對(duì)其光學(xué)檢測(cè)過(guò)程開展系統(tǒng)性的分析，在“上海市優(yōu)秀技術(shù)帶頭人”項(xiàng)目的支持下，開發(fā)了第一代AR-Meta光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)，并成功推向市場(chǎng)。經(jīng)過(guò)四年的技術(shù)迭代，AR-Meta實(shí)現(xiàn)了對(duì)三維光場(chǎng)和相位分布全方位的光學(xué)檢測(cè)，并已形成面向前沿科學(xué)研究和晶圓級(jí)檢測(cè)的系列產(chǎn)品，構(gòu)建了“超構(gòu)透鏡光學(xué)檢測(cè)的智能化平臺(tái)”。

章煒毅指出，AR-Meta平臺(tái)的開發(fā)是復(fù)享光學(xué)在光子芯片領(lǐng)域布局的一環(huán)，其定位就是要成為光子芯片檢測(cè)的儀器標(biāo)準(zhǔn)，為優(yōu)化超構(gòu)透鏡的設(shè)計(jì)、加工工藝提供關(guān)鍵支撐。

深度融入產(chǎn)業(yè)鏈

復(fù)享光學(xué)深耕微納光電子領(lǐng)域十年，發(fā)展智能化全光譜技術(shù)，著力于光子學(xué)與人工智能的融合，形成了國(guó)際領(lǐng)先的深度光譜技術(shù)平臺(tái)，向市場(chǎng)提供從技術(shù)到產(chǎn)品，從模塊到系統(tǒng)的全面解決方案。本次推出的兩大重磅解決方案，也標(biāo)志著復(fù)享光學(xué)在將技術(shù)積累與微納制造產(chǎn)業(yè)相結(jié)合的征途上又更進(jìn)了一步。

復(fù)享光學(xué)初入半導(dǎo)體行業(yè)時(shí)的定位是只做半導(dǎo)體設(shè)備的核心零部件供應(yīng)商，只是在與行業(yè)聯(lián)系愈發(fā)緊密之后，才走上了升級(jí)之路?！邦^部客戶不斷提出更嚴(yán)格的要求，不斷給與鼓勵(lì)，硬是把我們從一個(gè)模組廠商變成了解決方案廠商?！闭聼樢惴Q，正是在行業(yè)需求的倒逼之下，復(fù)享光學(xué)實(shí)現(xiàn)了從硬件到解決方案的升級(jí)，不僅收獲了客戶的極大信任，也大幅提升了自身的能力。

“在2022年，我們做的很重要的一件事就是改進(jìn)了生產(chǎn)管理體系和人員組織架構(gòu)，完全匹配了半導(dǎo)體行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)?！闭聼樢阒赋觯瑥?fù)享光學(xué)還進(jìn)一步擴(kuò)充了產(chǎn)能，即使頭部客戶在同一時(shí)間點(diǎn)密集下單，也不會(huì)對(duì)交付造成風(fēng)險(xiǎn)。

同產(chǎn)業(yè)鏈的深入接觸還帶來(lái)難得的新機(jī)遇，復(fù)享光學(xué)發(fā)現(xiàn)光譜檢測(cè)在半導(dǎo)體生產(chǎn)中有更多用武之地，“在光刻工藝中，要實(shí)現(xiàn)對(duì)光源的監(jiān)控，離不開光譜檢測(cè)；在薄膜沉積中，需要對(duì)等離子體進(jìn)行光譜監(jiān)控；在高溫退火工藝中，需要非接觸的光譜測(cè)溫；另外，在濕法制程里，也需要對(duì)液體濃度成份進(jìn)行光譜監(jiān)控?！?/p>

這也讓復(fù)享光學(xué)堅(jiān)定了信心，要配合設(shè)備廠商解決各類芯片制程工藝控制中的量檢測(cè)核心問題，為實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的全鏈突破保駕護(hù)航。

章煒毅表示，復(fù)享光學(xué)在過(guò)去的一年穩(wěn)扎穩(wěn)打，實(shí)現(xiàn)了兩個(gè)“全”的目標(biāo)。首先是全覆蓋，對(duì)半導(dǎo)體工藝中的所有光譜應(yīng)用場(chǎng)景全面摸底，完成了認(rèn)知的升級(jí)，上述的應(yīng)用都是在這個(gè)過(guò)程中被發(fā)掘出來(lái)的。第二是全接觸，對(duì)供應(yīng)鏈的頭部設(shè)備廠商全面接觸，并且陸續(xù)獲得客戶的積極反饋，逐漸展開深入合作。

自2017年開始進(jìn)入半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，從早期的技術(shù)摸索到當(dāng)前的產(chǎn)業(yè)應(yīng)用落地，復(fù)享光學(xué)更加了解這個(gè)行業(yè)，并逐漸深入產(chǎn)業(yè)，成為了這個(gè)行業(yè)不可或缺的一員。

成就更大夢(mèng)想

復(fù)享光學(xué)在2022年走過(guò)的路，也是國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展的一個(gè)縮影。在認(rèn)清了目標(biāo)和局面之后，整個(gè)行業(yè)正在急起直追。

在親自參與到半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化的進(jìn)程中后，復(fù)享光學(xué)也有了更深刻的認(rèn)識(shí)。“我們觀察到國(guó)產(chǎn)化有兩個(gè)重要趨勢(shì)，一是從以往簡(jiǎn)單的零部件替換逐漸提升到對(duì)復(fù)雜的關(guān)鍵部件的替換，像光學(xué)零部件就是其中的一部分?！闭聼樢阏f(shuō)：“另外一個(gè)趨勢(shì)就是，從簡(jiǎn)單的應(yīng)急平替逐步轉(zhuǎn)變?yōu)樾阅艹交蛘卟町惢膶?shí)現(xiàn)?！?/strong>

章煒毅特別指出，“大家都開始冷靜地思考，什么是自己真正想要的，國(guó)產(chǎn)化不能只是簡(jiǎn)單的平替，最終還是要找到自己的出路?！?/p>

隨著制程精度的推進(jìn)，中國(guó)半導(dǎo)體要在制造上實(shí)現(xiàn)持續(xù)的突破，檢測(cè)的比重將進(jìn)一步擴(kuò)大，檢測(cè)的精度也將大幅度提升。正是在這種背景下，有著更高維度的、由算法驅(qū)動(dòng)的深度光譜技術(shù)，開始取代傳統(tǒng)的光學(xué)技術(shù)，成為行業(yè)所關(guān)注的焦點(diǎn)。

因此，復(fù)享光學(xué)一方面為客戶提供設(shè)備和技術(shù)支持，以獲得解決方案在晶圓產(chǎn)線上的長(zhǎng)期穩(wěn)定性驗(yàn)證，另一方面，則是不斷與客戶去開發(fā)新的應(yīng)用場(chǎng)景，以深度光譜技術(shù)解決不同應(yīng)用場(chǎng)景的檢測(cè)訴求。例如，2021年，復(fù)享光學(xué)下屬的上海微納制程智能檢測(cè)工程中心關(guān)注到韓國(guó)百層3D NAND進(jìn)展，深入研究其中的薄膜厚度檢測(cè)難點(diǎn)，在國(guó)際知名光學(xué)期刊Light: Advanced Manufacturing上發(fā)表文章，首次提出薄膜神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)，為百層3D NAND量測(cè)技術(shù)提供了新思路。

不過(guò)，復(fù)享光學(xué)并不滿足于此。“在國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程中與頂尖的國(guó)外同行去對(duì)標(biāo)，這點(diǎn)是不會(huì)改變的，但是對(duì)標(biāo)本身并不會(huì)創(chuàng)造出第二家偉大的企業(yè)”，章煒毅表示，“復(fù)享光學(xué)希望能走出屬于自己的特色之路?！?/strong>