第十三屆半導體設備與核心部件展示會（CSEAC 2025）于2025年9月4日至6日在無錫盛大舉行，本屆大會以“專業(yè)化、產(chǎn)業(yè)化、國際化”為宗旨，聚焦技術交流、展覽展示、產(chǎn)品發(fā)布和國際合作。中微半導體設備（上海）股份有限公司（證券簡稱：中微公司，證券代碼：688012）作為全球領先的半導體設備供應商，攜多項先進技術與全新產(chǎn)品亮相展會，進一步凸顯了其在半導體設備領域內(nèi)的技術硬實力與行業(yè)影響力。

開幕式上，中微公司董事長兼總經(jīng)理尹志堯博士在主旨報告環(huán)節(jié)做了題為《半導體設備產(chǎn)業(yè)的趨勢和中微高速發(fā)展的策略》的演講，正式宣布了六款新設備的發(fā)布，并深入闡述了新產(chǎn)品的先進性能與獨特優(yōu)勢。尹志堯博士在演講中深刻剖析了半導體設備產(chǎn)業(yè)的戰(zhàn)略重要性、面臨的挑戰(zhàn)與機遇，深入解讀了設備產(chǎn)業(yè)發(fā)展歷史中若干特殊的規(guī)律性。他結合中微公司在產(chǎn)品開發(fā)戰(zhàn)略、技術創(chuàng)新、產(chǎn)品差異化及知識產(chǎn)權保護方面的策略與實踐，分享了科創(chuàng)企業(yè)實現(xiàn)高質量發(fā)展的“五個十大”體系，即“產(chǎn)品開發(fā)十大原則”、“戰(zhàn)略銷售十大準則”、“營運管理十大章法”、“精神文化十大作風”與“領導能力十大要點”。同時，他著重強調，需重視知識產(chǎn)權保護、堅持企業(yè)合規(guī)運營、倡導合作共贏，以推動半導體設備產(chǎn)業(yè)實現(xiàn)高速、穩(wěn)定、健康、安全的發(fā)展。他的發(fā)言引發(fā)了現(xiàn)場聽眾的強烈共鳴，并在產(chǎn)業(yè)內(nèi)產(chǎn)生了熱烈反響。

尹志堯博士在報告中談到，中微公司始終以市場與客戶需求為導向，持續(xù)加大研發(fā)投入力度。公司2024年研發(fā)總投入達24.5億元，較2023年增加94.31%，2025年上半年研發(fā)投入達14.92億元，同比增長約53.70%，研發(fā)投入占公司營業(yè)收入比例約為30.07%，遠高于科創(chuàng)板上市公司10%到15%的平均研發(fā)投入水平，彰顯了中微公司對技術創(chuàng)新的堅定投入。目前，公司在研項目已涵蓋六大類、超二十款新設備，研發(fā)速度實現(xiàn)跨越式提升——過去一款新設備的開發(fā)周期通常為3到5年，如今僅需2年甚至更短時間就能推出極具市場競爭力的產(chǎn)品并順利落地。

此次展會，中微公司展位上的裸眼3D視頻的震撼效果引來了眾多觀眾駐足。觀眾通過多媒體展示、實物模型、融合海報等多樣化形式深入了解了中微公司在集成電路微觀加工高端設備領域的最新成果與創(chuàng)新解決方案。

公司開發(fā)了包括單臺機、雙臺機在內(nèi)的三代、二十種刻蝕設備，包括CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕兩大類，覆蓋從65納米到5納米及更先進工藝的刻蝕應用。此次展會展示了刻蝕設備、導體和半導體化學薄膜設備，如MOCVD、LPCVD、ALD和EPI設備，這些設備已在市場占據(jù)領先地位。

憑借卓越的設計與創(chuàng)新呈現(xiàn)，中微公司在此次的展臺設計大賽中脫穎而出，榮獲一等獎。此次獲獎肯定了中微公司展臺在視覺創(chuàng)意與功能性上的出色表現(xiàn)，也體現(xiàn)了中微公司作為半導體設備領域領軍企業(yè)的綜合實力與品牌形象。

除了展位上的精彩展示，中微公司的多位行業(yè)專家還在展會同期的多場高規(guī)格論壇中精彩發(fā)聲，憑借深厚的行業(yè)積累與獨到見解，覆蓋技術趨勢、產(chǎn)業(yè)投資、人才培養(yǎng)等熱點話題，為參會者提供深度洞見。