直擊天芯微SEMICON2025，創(chuàng)新產(chǎn)品與卓越工藝引關(guān)注

作者：愛集微 03-28 15:31

來源：天芯微 #天芯微#

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3月26-28日，SEMICON China 2025在上海新國際博覽中心盛大召開。作為全球規(guī)模最大、規(guī)格最高的半導(dǎo)體行業(yè)年度盛會(huì)之一，江蘇天芯微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司憑借在外延及刻蝕高端設(shè)備領(lǐng)域領(lǐng)先的技術(shù)實(shí)力與出色的產(chǎn)品表現(xiàn)，吸引了全球參展商與海內(nèi)外觀眾的關(guān)注，彰顯了天芯微作為國內(nèi)領(lǐng)先的半導(dǎo)體高端前道設(shè)備制造商的創(chuàng)新實(shí)力。

創(chuàng)“芯”設(shè)備全新亮相，卓越工藝全場矚目

天芯微成立于2019年，專注于提供12寸先進(jìn)工藝硅基減壓外延設(shè)備及常壓外延設(shè)備、深硅刻蝕設(shè)備等半導(dǎo)體前道關(guān)鍵工藝設(shè)備，為全球客戶提供卓越技術(shù)解決方案。本次展會(huì)，天芯微展示了多款自主研發(fā)的、具備高度市場競爭力的設(shè)備產(chǎn)品，吸引了眾多海內(nèi)外客戶到展咨詢。

外延/Epi產(chǎn)品線

天芯微Epi RP 300 Compass HP采用Compass八邊平臺(tái)設(shè)計(jì)，具備高效且靈活的生產(chǎn)配置能力；配備天芯微自主研發(fā)的多區(qū)溫控模組實(shí)現(xiàn)各溫區(qū)的精準(zhǔn)控溫和溫度均勻分布，獨(dú)立多區(qū)進(jìn)氣系統(tǒng)改善薄膜均一性，一體集成預(yù)清洗系統(tǒng)。

Epi ATM 300 Compass HP是天芯微旗下卓越的大硅片外延制造設(shè)備，其獨(dú)立多區(qū)進(jìn)氣模組帶來了極致的薄膜厚度均一性和電阻率分布均勻，間隙隔離式多區(qū)控溫模組使晶圓邊緣溫度和邊緣薄膜厚度得到優(yōu)異控制。

刻蝕/Etch產(chǎn)品線

E-Focus是天芯微自主研發(fā)的深硅刻蝕設(shè)備，卓越的分區(qū)進(jìn)氣系統(tǒng)、分區(qū)晶圓冷卻系統(tǒng)、和分區(qū)射頻等離子控制，使得刻蝕均勻性更可調(diào)；快速氣體切換系統(tǒng)配合高速EtherCAT通信和控制算法，能夠帶來極致的形貌控制；實(shí)現(xiàn)了更高的刻蝕速率和刻蝕深寬比。

PRC+ Compass HP適用于前中后道場景的制造，其采用了全新噴淋頭設(shè)計(jì)，提升了工藝可調(diào)性及穩(wěn)定性, 實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的表面均勻性；其也具備多元材料的高選擇性刻蝕能力, 優(yōu)異的可控制性；具備優(yōu)異的高深寬比垂直刻蝕能力, 刻蝕圖形控制能力, 無負(fù)載及足部效應(yīng)；擁有在單腔內(nèi)執(zhí)行循環(huán)刻蝕及表面清潔能力。

此次參展，天芯微展臺(tái)精彩紛呈，現(xiàn)場人潮涌動(dòng)；眾多客戶與技術(shù)專家蒞臨展臺(tái)，共同探討未來的技術(shù)方向，彰顯了天芯微在半導(dǎo)體高端前道設(shè)備領(lǐng)域的品牌影響力。未來，天芯微將堅(jiān)持創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)，不斷突破技術(shù)難題，為行業(yè)的升級(jí)與發(fā)展注入源源不斷的創(chuàng)新活力，持續(xù)向全球半導(dǎo)體高端前道設(shè)備制造高峰邁進(jìn)，為中國半導(dǎo)體芯片制造提供優(yōu)質(zhì)的國產(chǎn)化解決方案。

關(guān)于ASEL天芯微

天芯微成立于2019年8月，致力于半導(dǎo)體前道關(guān)鍵工藝設(shè)備的研發(fā)、制造和應(yīng)用，為全球客戶提供高端半導(dǎo)體設(shè)備和服務(wù)。

在外延工藝設(shè)備領(lǐng)域，天芯微擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的減壓外延設(shè)備和常壓外延設(shè)備，應(yīng)用于先進(jìn)工藝制程的邏輯芯片、存儲(chǔ)產(chǎn)品、外延片以及功率器件等生產(chǎn)制造，各項(xiàng)性能均達(dá)到了國際先進(jìn)水平，部分核心性能超過國際同類產(chǎn)品，獲得客戶的廣泛認(rèn)可。

在刻蝕工藝設(shè)備領(lǐng)域，天芯微已研發(fā)出完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的高端深硅刻蝕設(shè)備E-Focus，可實(shí)現(xiàn)高深寬比的硅通孔和溝槽刻蝕?；?2 英寸先進(jìn)工藝技術(shù)及量產(chǎn)規(guī)模下自主開發(fā)的預(yù)清潔設(shè)備PRC+ Compass HP, 可實(shí)現(xiàn)超高選擇性刻蝕及表面預(yù)清潔能力。

截至目前，公司擁有員工近200人，碩士、博士學(xué)歷研發(fā)占比50%以上，核心人員來自全球知名半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)，主導(dǎo)過多款前道工藝設(shè)備的研發(fā)和驗(yàn)證工作，擁有30年以上研發(fā)到市場的產(chǎn)品投放經(jīng)驗(yàn)。