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和遠(yuǎn)氣體一專利獲認(rèn)證,可將CO2雜質(zhì)脫除至0.1ppm以下

來源:愛集微 #和遠(yuǎn)氣體#
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1月15日,和遠(yuǎn)氣體發(fā)布公告稱,近日,公司取得了1項發(fā)明專利,專利名稱為“一種半導(dǎo)體用超高純氯化氫氣體的制備裝置及其工藝”,專利號為ZL202111321362.7。

公告顯示,該發(fā)明專利是一種以工業(yè)產(chǎn)品氣體為原料,采用高分子滲透膜、金屬陽離子交換樹脂、稀土金屬化合物脫水與高壓精餾的結(jié)合,可將組分中CO2雜質(zhì)脫除至0.1ppm以下、金屬離子含量脫除至10ppt以下;所述制備工藝擺脫了現(xiàn)有技術(shù)對原料的依賴,在生產(chǎn)超高純氯化氫氣體的同時產(chǎn)生多種品質(zhì)的氯化氫氣體,尾氣減少的同時易于處理,適用于工業(yè)化推廣。

和遠(yuǎn)氣體表示,此項發(fā)明專利的取得,不會對公司的生產(chǎn)經(jīng)營和經(jīng)營業(yè)績產(chǎn)生重大影響,但有利于公司在電子特氣領(lǐng)域的技術(shù)儲備與技術(shù)提升,對公司在電子特氣領(lǐng)域進(jìn)一步發(fā)展提供技術(shù)支持。

(校對/黃仁貴)

責(zé)編: 黃仁貴
來源:愛集微 #和遠(yuǎn)氣體#
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