據(jù)報道，韓國掩模制造商S&S Tech的極紫外（EUV）空白掩模已接近獲得三星批準使用的最后階段。

三星的目標是年內在韓國國內采購EUV空白掩模版。消息人士稱，該公司正在實際工藝環(huán)境中使用S&S Tech的EUV空白掩模版樣品，并檢查其中是否存在缺陷。

最終的質量評估預計將于下半年進行。

如果S&S Tech的空白掩模版獲得批準，這將是韓國公司第二次成功實現(xiàn)EUV所用材料的商業(yè)化生產(chǎn)。第一家是成功生產(chǎn)EUV所用光刻膠（PR）的東進世美肯（Dongjin Semichem）。

消息人士稱，三星半導體光刻團隊的目標是通過增加S&S Tech作為供應商來減少對日本豪雅（Hoya）的依賴，確保穩(wěn)定的供應并降低成本。

三星目前使用的EUV空白掩模版大多從這家日本公司采購。然而，由于日本地震等各種因素，這家韓國科技巨頭多次難以及時采購掩模版。為了緩解這些擔憂，豪雅在新加坡建了一家工廠。

據(jù)悉，S&S Tech于2024年12月向日本Lasertec公司訂購了EUV掩模檢測設備，每臺售價417億韓元。然而，Lasertec公司訂單積壓。三星隨后介入，要求Lasertec公司接手S&S Tech的訂單。預計該設備將于10月運抵S&S Tech位于龍仁的新工廠。

EUV空白掩模版每片成本高達數(shù)萬美元。三星認為，在國內采購部分EUV掩模版將節(jié)省數(shù)千萬美元，并縮短交貨時間。（校對/趙月）