據(jù)報道,韓國掩模制造商S&S Tech的極紫外(EUV)空白掩模已接近獲得三星批準使用的最后階段。
三星的目標是年內在韓國國內采購EUV空白掩模版。消息人士稱,該公司正在實際工藝環(huán)境中使用S&S Tech的EUV空白掩模版樣品,并檢查其中是否存在缺陷。
最終的質量評估預計將于下半年進行。
如果S&S Tech的空白掩模版獲得批準,這將是韓國公司第二次成功實現(xiàn)EUV所用材料的商業(yè)化生產(chǎn)。第一家是成功生產(chǎn)EUV所用光刻膠(PR)的東進世美肯(Dongjin Semichem)。
消息人士稱,三星半導體光刻團隊的目標是通過增加S&S Tech作為供應商來減少對日本豪雅(Hoya)的依賴,確保穩(wěn)定的供應并降低成本。
三星目前使用的EUV空白掩模版大多從這家日本公司采購。然而,由于日本地震等各種因素,這家韓國科技巨頭多次難以及時采購掩模版。為了緩解這些擔憂,豪雅在新加坡建了一家工廠。
據(jù)悉,S&S Tech于2024年12月向日本Lasertec公司訂購了EUV掩模檢測設備,每臺售價417億韓元。然而,Lasertec公司訂單積壓。三星隨后介入,要求Lasertec公司接手S&S Tech的訂單。預計該設備將于10月運抵S&S Tech位于龍仁的新工廠。
EUV空白掩模版每片成本高達數(shù)萬美元。三星認為,在國內采購部分EUV掩模版將節(jié)省數(shù)千萬美元,并縮短交貨時間。(校對/趙月)